最終更新日：2025/11/23

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Acronym of metalorganic atomic layer deposition, the self-limiting layer-by-layer precision process of atomic level deposition, used in the next generation microelectronics and nanotechnology, to grow High-k dielectric layers, Metals and Metal Gate Electrodes in semiconductor industry.

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MOALD

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元となった辞書の項目

MOALD

名詞

略語頭字語別表記不可算名詞

Acronym of metalorganic atomic layer deposition, the self-limiting layer-by-layer precision process of atomic level deposition, used in the "next generation" microelectronics and nanotechnology, to grow High-k dielectric layers, Metals and Metal Gate Electrodes in semiconductor industry.

日本語の意味

金属有機原子層堆積（MOALD）は、金属有機化合物を用いた原子層堆積法であり、原子レベルで層ごとに精密に制御された自己制限的な堆積プロセスを指します。これは、次世代のマイクロエレクトロニクスやナノテクノロジーの分野で、High-k誘電体層、金属およびメタルゲート電極の成長に利用される技術です。