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最終更新日：2025/12/05

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The chemical vapour deposition precursor cyclopentadienyl-propylcyclopentadienylruthenium produced uniform thin films on the silicon wafer.

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元となった例文

The chemical vapour deposition precursor cyclopentadienyl-propylcyclopentadienylruthenium produced uniform thin films on the silicon wafer.

化学気相成長の前駆体である、シクロペンタジエニル基とプロピル置換シクロペンタジエニル基に挟まれたルテニウムのサンドイッチ化合物は、シリコンウエハ上に均一な薄膜を形成した。