After the solvent evaporated, we spincoated a uniform resist layer onto the silicon wafer for patterning.
溶媒が蒸発した後、私たちはパターニングのために均一なレジスト層をシリコンウェーハにスピンコートした。
アカウントを持っていませんか？ 新規登録
アカウントを持っていますか？ ログイン
DiQt（ディクト）
無料
★★★★★★★★★★
