最終更新日：2025/11/26
The research team applied the Czochralski process to pull single-crystal silicon ingots for high-performance semiconductor devices.
正解を見る
The research team applied the Czochralski process to pull single-crystal silicon ingots for high-performance semiconductor devices.
音声機能が動作しない場合はこちらをご確認ください
編集履歴（0）
元となった例文
研究チームは高性能な半導体デバイス向けの単結晶シリコンインゴットを作製するため、チョクラルスキ法を適用した。
