最終更新日：2025/11/21
In the wafer fabrication lab, engineers used xenon difluoride to selectively etch silicon microstructures without damaging sensitive underlying layers.
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In the wafer fabrication lab, engineers used xenon difluoride to selectively etch silicon microstructures without damaging sensitive underlying layers.
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元となった例文
ウエハ加工の研究室で、技術者たちは基板の下層を損なうことなくシリコンの微細構造を選択的にエッチングするために二フッ化キセノン（XeF2）を使用した。
