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Last Updated：2025/12/07

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We selected a sputterable target material to ensure uniform thin-film deposition across the wafer.

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We selected a sputterable target material to ensure uniform thin-film deposition across the wafer.

均一な薄膜堆積をウェーハ全体で確保するため、スパッタ成膜に適したターゲット材料を選定した。