Last Updated:2025/11/21

We used secondary ion mass spectrometry to map the distribution of trace elements within the semiconductor wafer.

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We used secondary ion mass spectrometry to map the distribution of trace elements within the semiconductor wafer.

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半導体ウェハ内の微量元素の三次元分布を可視化するため、表面原子をエネルギーの高いイオンビームではぎ取りながら分析する二次イオン質量分析法を使用しました。

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