Last Updated：2025/11/21
In the wafer fabrication lab, engineers used xenon difluoride to selectively etch silicon microstructures without damaging sensitive underlying layers.
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In the wafer fabrication lab, engineers used xenon difluoride to selectively etch silicon microstructures without damaging sensitive underlying layers.
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ウエハ加工の研究室で、技術者たちは基板の下層を損なうことなくシリコンの微細構造を選択的にエッチングするために二フッ化キセノン（XeF2）を使用した。
