Last Updated:2025/11/21

The research team used molecular beam epitaxy to grow an ultra-pure semiconductor layer just a few atoms thick.

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The research team used molecular beam epitaxy to grow an ultra-pure semiconductor layer just a few atoms thick.

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研究チームは、蒸発した原子を凝縮させて超高純度の半導体薄膜を成長させる技術である分子線エピタキシーを用いて、わずか数原子厚の半導体層を作製した。

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